清洗

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◎晶圓清洗(顯影)機/藍膜清洗機(SPIN CLEANER/DEVELOPER)

⊚ MODEL:SWT(手動-桌上型)

⊚ W400mm×D450mm×H420mm

⊚ 適用尺寸:2”-6”Wafer

⊚ 基本規格:

-外觀材質:P.P.以上耐異丙醇、丙酮溶濟材質。

-吸盤:1組

-噴嘴:3組(異丙醇*1、丙酮*1、空噴嘴*1)

-排風系統

-排廢液系統

-馬達:AC伺服馬達(轉速:10-6000 RPM)

-固定式噴嘴:1(N2)

-開蓋方式:手動上掀式

-噴嘴頭採塑膠材質,耐ACE

-排放口濾網材質

-壓力桶設置低水位sensor、自動補液

-噴嘴上方設計安全裝置,避免人員任意調整

-設定安全裝置,生產中開蓋會自動停止


⊚ MODEL:SWA(自動-落地型)

⊚ L1175mm×D700mm×H1100mm

⊚ 設備概要:

⊚ 適用尺寸:2”-12”Wafer基材

⊚ 基本規格:

-外觀材質:本體以SUS304亮面板材質組合而成。

-設備骨架:鋁擠型骨架組合,架構強固。

-盆罩:SUS 304亮面鋼板Cup盆罩結構。

-盆罩掀蓋:氣缸傳動,盆蓋未閉合無法旋轉作動。

-吸盤:鋁製吸盤陽極硬化處理,具抗酸鹼功能,吸盤表面平坦。

-作業視窗:採透明PVC或玻璃材質,掌握作業情況

-排風系統:直接式抽風設計,並同時減低異味

-排液系統

-馬達:AC Motor(轉速:30~1900 RPM)

-擺臂:直徑擺動AC Motor

-機台安全保護

⊚ 電控系統:

-軟體:PLC可程式自動化控制器

-使用操作介面:人機

-配方模組:6組配方設定

-段數設定:每一配方模組均設7段段數,可設定加速度及時間控制。

⊚ 密碼設定:可依權限設定密碼保護。